- Параметры
- Описание
- Отзывы
Параметры
| Вид изделия | Очки защитные закрытые |
|---|---|
| Цвет линзы | прозрачный |
| Покрытие линз | против царапин и запотевания (AF/AS) |
| Материал линз | Поликарбонат (РС) |
Описание
Очки UVEX™ УЛЬТРАВИЖИН (9301613) (РС) предназначены для работы в экстремальных условиях: в горячих цехах, в условиях задымления, загазованности и запыленности.
• закрытые панорамные очки (обзор 180°);
• линза обладает стойкостью к запотеванию (как минимум 16 секунд) с внутренней стороны и защищает от царапин и воздействия химикатов с внешней стороны;
• антизапотевающие свойства являются постоянными, даже после многократной очистки;
• благодаря нанотехнологии, линзы также легко очищаются и меньше подвержены загрязнениям;
• отсутствие вентиляции обеспечивает полную герметичность;
• обтюратор и резинка с быстрой регулировкой обладают повышенной огнестойкостью;
• высокопрочная поликарбонатная линза защищает от летящих частиц (120 м/с), от ультрафиолета, брызг расплавленного металла, воздействия химических веществ;
• можно надевать на корригирующие очки;
• в комбинации со щитком обеспечивают защиту лица от механических воздействий.
Оптический класс: 1.
Вес: 145 г.
• закрытые панорамные очки (обзор 180°);
• линза обладает стойкостью к запотеванию (как минимум 16 секунд) с внутренней стороны и защищает от царапин и воздействия химикатов с внешней стороны;
• антизапотевающие свойства являются постоянными, даже после многократной очистки;
• благодаря нанотехнологии, линзы также легко очищаются и меньше подвержены загрязнениям;
• отсутствие вентиляции обеспечивает полную герметичность;
• обтюратор и резинка с быстрой регулировкой обладают повышенной огнестойкостью;
• высокопрочная поликарбонатная линза защищает от летящих частиц (120 м/с), от ультрафиолета, брызг расплавленного металла, воздействия химических веществ;
• можно надевать на корригирующие очки;
• в комбинации со щитком обеспечивают защиту лица от механических воздействий.
Оптический класс: 1.
Вес: 145 г.
Отзывы
Оставьте отзыв
Заполните обязательные поля *.